Page 5 - merged
P. 5

“Contatore di dosi di radiazione”
                                         “Impianto monitore di radioattività γ “,

“Misuratore di profilo di flusso”,

                             “Camere di

ionizzazione per neutroni”.

1962-63 - In relazione alle esperienze acquisite nei Lab. Naz. Di Frascati fui inserito nelle attività
relative alla realizzazione dei “Rivelatori delle radiazioni nucleari”.

Nel 63 sposai una ragazza del Laboratorio e il Direttore Rispoli, ligio a determinati principi che
condivisi e condivido, la trasferì alla Biblioteca Centrale del neonato CNEN (Comitato Nazionale
per le Ricerche Nucleari).
In equipe cominciai a occuparmi di impianti da vuoto e di evaporazione dei materiali finalizzati alla
realizzazione di rivelatori di particelle ionizzanti a cominciare da quelli a semiconduttore a barriera
superficiale.
Parallelamente agli studi dei fisici sullo stato solido, bisognava realizzare ex novo le facilità
costruttive e non perdere tempo a reinventare, pertanto, per un mio periodo di addestramento, il
Direttore Rispoli prese contatto con il Prof. Gatti del Gruppo Tecniche Sperimentali dei Laboratori
CISE di Milano, dove avevano cominciato un esperienza simile.
Tempi burocratici a mio avviso lunghi, di mia iniziativa presi contatto con i ruoli tecnici che mi
diedero il benestare scavalcando tutti. Usufruii di alcuni giorni di ferie, approfittai per andare a
trovare mia madre vicino Milano e partii a mie spese.
Riporto questo episodio per dimostrare quanto fossimo partecipi e interessati al lavoro e quanta
flessibilità ci fosse nella dirigenza: me la cavai con un bonario
cicchetto.

Superata questa fase ci mettemmo al lavoro e realizzammo

“Rivelatori a semiconduttore a barriera superficiale per particelle α”,

con notevoli migliorie tecnologiche rispetto ai costosissimi manufatti
dell’industria nucleare internazionale.
Mettemmo a punto tecniche di lavorazione di slices di silicio
monocristallino, preparazione di ambienti pressurizzati, tecniche dei trattamenti per ottenere i gradi
di purezza richiesti, tecniche chimiche per l’eliminazione dell’ossido superficiale e di deposizione
   1   2   3   4   5   6   7   8   9   10